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沉淀二氧化硅的隔离羟基和相邻羟基

双击自动滚屏 发布时间:2013/3/22 阅读:3166次 【字体:

  沉淀二氧化硅表面的隔离羟基和相邻羟基,在存放过程中,接触水蒸气就会改变浓度。其中隔离羟基不变化,说明在生产过程中产生的隔离羟基是稳定的,而相邻羟基会逐渐增多,这种现象也可用杨格的机理来解释,即在高温下形成了某些含有 “内应力”的硅-氧-硅键,它可吸水打开而形成更多的相邻羟基。沉淀二氧化硅在常温~700℃温度范围内加热不会改变其无定型结构,但大于700℃后比表面积逐渐减小,这表明结构发生了变化,表面熔结,吸附能力相应减小。

  沉淀二氧化硅因工艺、生产方法、要求等各异,其酸碱性也有差别:一般多近中性,但也有微酸性或微碱性。

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